Martin Hoheisel
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Die Geschichte des a-Si

Ich bin
1969 Chittik, Alexander, Sterling stellen erstmals amorphes, wasserstoffhaltiges Silizium (a-Si:H) mit plasmaunterstützter Chemical Vapour Deposition (PECVD) her
1972 Pierce, Spicer vermessen die optische Absorption von amorphem Silizium
LeComber, Madan, Spear bestimmen die Ladungsträger-Beweglichkeit mittels Flugzeit - Spektroskopie (Time of Flight)
1973 Beyer, Stuke messen die Thermokraft
Engemann, Fischer nehmen Photo-Lumineszenz-Spektren auf
1974 Spear, Loveland, Al-Sharbaty entdecken die Photoleitung des amorphen Siliziums
1975 Spear, LeComber gelingt erstmalig die Dotierung von amorphem Silizium. Damit ist eine wichtige Voraussetzung gegeben, Bauelemente herzustellen.
1976 Carlson baut die erste Solarzelle aus a-Si:H
Madan, LeComber stellen den Feldeffekt fest. Er dient zur Bestimmung der Zustandsdichte und ermöglicht, Dünnfilm-Transistoren (TFT) aufzubauen.
1977 Knights, Biegelsen, Solomon untersuchen a-Si:H mit der Elektronenspinresonanz (ESR)
Staebler, Wronski bemerken, daß a-Si:H altert. Unter anhaltender Beleuchtung werden zusätzliche Defektzustände gebildet, die z.B. den Wirkungsgrad von Solarzellen herabsetzen. Der Effekt wird nach den Entdeckern benannt (Staebler-Wronski-Effekt).
1978 Fuhs, Milleville, Stuke vermessen die Responsezeit des Photoleiters a-Si:H
1980 Cohen, Harbison, Bean spektroskopieren das thermische Emissionsverhalten tiefer Störstellen (DLTS) und erhalten damit eine Methode zur Analyse der Zustandsverteilung
1983 Vanecek, Kocka, Stuchlik, Kozisek entwickeln die Methode des konstanten Photostroms (CPM) als einfachstes Verfahren, die Zustandsdichte zu vermessen

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Letzte Änderung 27.5.2010
© M.Hoheisel